英飞凌科技申请半导体器件专利,提供一种特殊的晶体管...

[复制链接]
查看6747 | 回复0 | 2024-10-18 18:08:22 | 显示全部楼层 |阅读模式

  cyu

  金融界2024年10月18日消息,国家知识产权局信息显示,英飞凌科技奥地利有限公司申请一项名为“半导体器件”的专利,公开号CN 118782648 A,申请日期为2024年4月。

  专利摘要显示,本公开涉及半导体器件。

  根据实施例,提供了一种晶体管器件,其包括具有第一主表面的半导体衬底和一个或多个晶体管单元。每个晶体管单元包括在半导体衬底中形成的柱状沟槽、布置在柱状沟槽中的柱状场板和围绕柱状沟槽布置的台面。柱状沟槽包括场电介质、基底和侧壁。侧壁从基底延伸到第一主表面,并且场电介质对柱状沟槽的基底和侧壁进行内衬。场电介质在距基底的第一距离处的第一厚度小于场电介质在距基底的第二距离处的第二厚度其中第距离大于第二距离柱状场板在第距离处的第一周长大于柱状场板在第二距离处的第二周长。


免责声明

1.本网站所收集的部分公开资料来源于互联网,转载的目的在于传递更多信息及用于网络分享,并不代表本站赞同其观点和对其真实性负责,也不构成任何其他建议。
2.如果您发现网站上有侵犯您的知识产权的作品,请与我们取得联系,我们会及时修改或删除。

上一篇:faiss
下一篇:英飞凌全球最大碳化硅晶圆厂在马来西亚启用

回复

使用道具 举报

您需要登录后才可以回帖 登录 | 立即注册

本版积分规则

2061

主题

0

回帖

2061

积分

少尉

积分
2061